测试项目：

聚焦离子束双束显微镜FIB

仪器型号：

ZEISS Crossbeam 540

注意事项：

1.定点剖面形貌和成分表征；

2. TEM样品制备；

3.微纳结构加工；

4.芯片线路修改；

5.切片式三维重构；

6.材料转移；

7.三维原子探针样品制备；

适用领域：

结构分析、材料表征、芯片修补、生物检测、三维重构、材料转移等，该系统可适用于横截面和断层扫描，3D分析，TEM样品制备及纳米图形加工。